俞志中
俞志中 高级工程师。男，1942年10月生，浙江宁波人。毕业于上 海科学技术大学。现任职于上海市计量测试技术研究院。主要业绩：撰有《火花源质谱分析定量计算方法》、《第二次全国质谱学会议资料选编》( 原子能出版社1982年)；《光学干涉法测量外延薄膜层厚度》，《理化检验》(物理分册)197 9年第4期；《上海金属》(有色分册)1984年第5期。《Cr20Mn10Ni4Si3N钢的ESCA和 AES研究 》(仪器仪表学报)1983年第1期。入选国际会议的论文有《用AES研究Cu2S/CdS太阳电池中S 、Cd、Cu元素的扩散》国际再生能源专题讨论会，巴基斯坦，拉乌尔1983年3月22日，《PbO2 /MnO2Semiconducting Thin Film Technology and its ESCA / AES Study 》 The 4 th International Microelectronics Conference May 28-30，1986，日本神户，《A Modi fied TLMM Tnin Film Capacitor With Doped PbO2》35th ECC May 20-22，1985，美国 华盛顿。另外，还涉足于电镀耐腐蚀的Ni-P-La三元非晶态合金、钢铁镀锌后的特殊钝化、 不锈钢清洗钝化、钢铁除锈、钢铁漆前防锈、钢铁渗铝等工艺。