计量学基础
作者：李德明，王傲胜主编
ISBN：10位［7560836135］13位［9787560836133］
出版社：同济大学出版社
出版日期：2007-9-1
定价：￥36.00元
内容简介本书以计量的技术和计量管理为主线，阐述计量学的基本原理、常见计量项目及其主要应用、计量管理的主要手段等内容，共分11章，包括计量单位与计量单位制，概率论与数理统计基础知识，测量不确定度及数据处理，常用计量技术及仪器，计量器具的分类、制造与使用，计量测试的品质保证，传感器技术与计量发展，测量管理体系标准的理解、实施与评审，实验室管理，计量校准的管理体系等。附录还给出了部分相关法律法规与标准规范。
编辑推荐本书具有内容编排起点低、进展平缓，教学突出重点、分散难点，注重与实际相结合等鲜明特色，可使学生较全面地了解计量学知识并掌握计量所必需的基本知识，可作为高等专科学校、高等职业院校、成人高等学校检验类、仪器仪表及管理类专业的教材，也可供相关专业的师生和工程技术人员学习参考。
目录前言
绪论
小结
复习思考题
第一章计量单位与计量单位制
第一节计量单位与单位制
第二节国际单位制
第三节我国的法定计量单位
小结
复习思考题
第二章概率论与数理统计基础知识
第一节随机变量的基本概念
第二节随机变量的数字特征
第三节随机变量的基本定理
第四节几种常见随机变量的概率分布及其数字特征
小结
复习思考题
第三章测量不确定度及数据处理
第一节计量的基本术语及概念
第二节测量误差
第三节数据处理
第四节测量不确定度
小结
复习思考题
第四章常用计量技术及仪器（一）
第一节几何量计量
第二节光学计量
第三节电离辐射计量
第四节声学计量
第五节化学计量
小结
复习思考题
第五章常用计量技术及仪器（二）
第一节力学计量
第二节热工计量
第三节电磁、无线电计量
第四节时间频率计量
小结
复习思考题
第六章计量器具的分类、制造与使用
第一节计量器具及其分类
第二节计量器具的制造、销售、使用与维修
第三节计量器具的选配
小结
复习思考题
第七章计量测试的品质保证
第一节量值传递与溯源
第二节量值溯源与校准
第三节计量测试品质保证与传统方式
第四节新型量值传递或溯源方式——计量保证方案
小结
复习思考题
第八章传感器技术与计量发展
第一节监测系统的特性和传感器组成与工作原理
……
第九章测量管理体系标准的理解、实施和评审
第十章实验室管理
第十一章计量标准的管理体系
附录A部分相关法律法规与标准规范
附录BISO10012：2003测量管理体系测量过程和测量设备的要求
参考文献
书摘(一)计量本身就是科学技术的一个重要组成部分，科学生产和技术革新都离不开计量
计量本身就是科学技术的一个重要组成部分，事物都是由一定的“量”组成，并通过“量”来体现，任何科学技术，都是为了探讨、分析、研究、掌握和利用事物的客观规律，只有通过计量，认识“量”并确切获得其量值，才能对事物的客观规律进行认识和掌握。从经典的牛顿力学到现代的量子力学，各种定律、定理，都是通过计量手段的进一步观察、分析、研究、推理和实际验证才被揭示、承认和确立。
历史上三次大的技术革命，都充分地依靠了计量，也促进了计量的发展。以蒸汽机的广泛应用为主要标志的第一次技术革命，是以经典力学和热力学为社会科技发展的重要理论基础。在蒸汽机的研制和应用的过程中，需要对蒸汽压力、热膨胀系数、燃料的燃烧效率、能量的转换等进行大量的计量测试。力学和热工计量，就是在这种情况下发展起来的。机械工业的兴起，使几何量的计量得到了进一步的发展。以电的产生和应用为基本标志的第二次技术革命，更加推动了社会生产的发展。欧姆定律、法拉第电磁感应定律以及麦克斯韦电磁波理论等理论，为电磁现象的深入研究和广泛应用、电磁计量和无线电计量的开展，提供了重要的理论基础。例如，爱因斯坦在普朗克假说的基础上，提出了光不仅具有波动性，而且还具有粒子性，即光是以太速度，上述理论成功地解释了光电效应，成了热辐射计量的基础，同时也使计量开始从宏观进入微观领域。随着量子力学、核物理学的创立和发展，电离辐射计量逐渐形成。核能及化工等的开发与应用，导致了第三次技术革命。原子能、化工、半导体、电子计算机、超导、激光、遥感、宇航等新技术的广泛应用，使计量日趋现代化，计量的宏观实物基准逐步向量子(自然)基准过渡。原子频率基准和米的新定义形成，频率和长度的精密测定，促进了现代科技的发展。比如，光速的测定，原子光谱的超精细结构的探测，航海、航天、遥感、激光、微电子等许多高科技领域，都是以频率和长度的精密测量为重要基础的。
所谓第四次技术革命，将引起科技、经济和社会的重大变革，人类将进入“超工业社会”或“信息社会”。这场技术革命的先导是微电子学和计算机，而集成电路又可以说是先导的核心。集成电路的研制，没有相应的计量保证是不可想象的。比如，硅单晶的物理特性、几何参数，超纯水、超纯气的纯度，化学试剂、光刻胶的性能，膜层厚度、层错位错，离子注入深度、浓度、均匀度以及工艺监控
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