电子束曝光
电子束曝光是用具有一定能量的电子束照射抗蚀剂,经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。
对正性抗蚀剂,在显影后经电子束照射区域的抗蚀剂被溶解掉,而未经照射区域的抗蚀剂则保留下来;对负性抗蚀剂则情况相反。
电子束曝光有投影和扫描两种工作方式。
电子束投影方式与光刻过程类似,是将掩模版上的图形转换成衬底表面介质的图形的过程。
电子束曝光是用具有一定能量的电子束照射抗蚀剂,经显影后在抗蚀剂中产生图形的一种微细加工技术。
对正性抗蚀剂,在显影后经电子束照射区域的抗蚀剂被溶解掉,而未经照射区域的抗蚀剂则保留下来;对负性抗蚀剂则情况相反。
电子束曝光有投影和扫描两种工作方式。
电子束投影方式与光刻过程类似,是将掩模版上的图形转换成衬底表面介质的图形的过程。