光学投影曝光微纳加工技术(电子束离子束光子束微纳加工技术系列专著)
作者：姚汉民、胡松、邢廷文
ISBN：10位［7563916695］13位［9787563916696］
出版社：北京工业大学出版社
出版日期：2006-12
定价：￥46.00元
内容提要本书系统介绍主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、系统组成、
应用和发展前景，详细介绍投影光刻物镜、掩模硅片对准、激光定位工件台
、分辨力增强技术以及整机集成。
全书共分七章，第一章为光学投影光刻基础，介绍光学投影光刻的发展
、分类，光学投影光刻的关键单元技术及分系统，光学投影光刻在微纳加工
技术中的应用；第二章为投影光刻的光学系统，包括投影物镜、照明系统、
调平调焦分系统；第三章介绍掩模硅片对准技术，包括离轴对准、同轴对准
、同轴和离轴相结合的对准技术，同时讨论掩模传输和预对准、硅片传输和
预对准技术；第四章介绍激光工件台定位技术，详细讨论步进和扫描工件台
的工作原理、结构、激光干涉测量和控制，以及精密定位工件台的精度分析
；第五章为分辨力增强技术，介绍离轴照明：相移掩模、光学邻近效应校正
、光瞳滤波、偏振成像等提高光刻分辨力和曝光图形质量的技术和方法；第
六章为整机集成，介绍整机的主要性能、套刻坐标系及套刻精度分析、整机
电控系统、整机软件系统、环境控制系统、整机框架设计等；第七章介绍光
学投影光刻的最新进展和纳米光刻新技术的前景展望。
本书可作为微电子设备专业领域的研发人员和从事半导体、微机械、微
光学、红外器件、显示器件等微米纳米级加工技术的科技人员的技术参考书
，同时还可作为相关高等院校教师、研究生和本科生的参考用书。
编辑推荐本书系统地介绍了光学光刻技术的发展历史、主流光刻技术——光学投影光刻的工作原理、分类、组成的分系统及关键单元技术、技术发展趋势和前景。这本书是对我国光学光刻技术20多年来的工作实践和创新成果的系统总结，同时还介绍了光学投影光刻的最新进展和纳米光刻新技术的前景展望。各章节选题和结构合理。本书可作为微电子设备专业领域的科技人员和从事半导体、微机械、微光学、红外器件、显示器件等微(米)纳(米)加工技术领域的科技人员的技术参考书，同时还可作为相关高等院校教师、研究生和本科生的参考用书。
作者简介姚汉民1944年11月生，男，1966年毕业于浙江大学光学仪器系光学仪器专业，研究员，博士生导师。曾任中国科学院成都分院院长、光电技术研究所所长、微细加工光学技术国家重点实验室主任。长期从事光电跟踪光学仪器和微电子光学设备的研究，1979年至今，参加JX-1型接近／接触式光刻机，圆形电子束、可变矩形电子束曝光机激光定位工件台系统，掩模缺陷自动检测系统，1．5pan～2btm分步重复投影光刻机等研究工作。主持国家“八五”攻关项目O．8μm～1μm投影光刻机、中国科学院重大项目0．7μm～O．8μmi线投影曝光系统的研究。作为项目负责人，主持完成“九五”重大项目O．35μm投影光刻关键单元技术研究。作为首席专家完成中国科学院知识创新工程重大方向性项目“生物芯片仪器”项目研究。先后获国家科技进步三等奖两项，中国科学院科技进步一等奖四项、科技进步二等奖一项。
现为国际SPIE学会会员，中国光学学会会员，四川省学术和技术带头人。1991年享
目录前言
第一章光学投影光刻基础
第一节微纳光刻技术概述
一、微纳加工光刻技术
二、微纳加工光刻技术分类
第二节光学投影光刻
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