束源

beam source

产生分子束的装置。

可分为隙流束源和超声分子束源。

隙流束源(effusive beam source)是采用加热的方法使分子(如钠)蒸发，从狭缝中射出，经一准直孔把发散的分子挡掉，可得一束较窄而直的分子束射向反应室。束源出口小孔的尺寸要小于束源内分子热运动的平均自由程，束源内分子速度是按玻尔兹曼分布，分子速度分布相对较宽，发散角大，因而束强较小。隙流束源又称热束源、扩散束源、炉束源等。

超声分子束源(supersonic molecular beam)气体分子从喷嘴射出，经出口孔、准直器进入真空室。其特点是束源强度大，沿轴线方向流动使束的发散性得到抑制；由于向真空绝热膨胀，温度可降低到小于20K；速度分布窄。由于马赫数M(=束流速度/声速)可达几十(超音速)，故又称超声分子速。

分子束的强度即束强(beam intensity)，是单位时间通过与入射束运动方向相垂直的单位面积的粒子数。

束流(beam flux)是单位时间内射到检测器上的粒子数，也称通量。