炉前碳硅分析仪

王朝百科·作者佚名  2010-07-11  
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仪器简介炉前碳硅分析仪又称炉前快速铁水分析仪、碳硅成份分析仪、碳硅当量仪、热分析仪。,生产铸铁件时,要根据铸件壁厚和铸造条件选择合适的化学成份,以保证达到所需要的机械性能。其它条件相同时,碳当量(C肠十告si肠)对铸铁金相组织、铸造性能和机械性能有决定性影响。 球铁生产中,只有快速、准确地测定原铁水的碳当量,才能给孕育工艺提供必要数据。

仪器用途合金分析仪

一、概述

合金分析仪是基于X射线理论而诞生的,它主要用于军工、航天、钢铁、石化、电力、制药等领域金属材料中元素成份的现场测定。是伴随世界经济崛起的工业和军事制造领域必不可少的快速成份鉴定工具。

二、原理

合金分析仪的是一种XRF光谱分析技术,可用于确认物质里的特定元素, 同时将其量化。它可以根据X射线的发射波长(λ)及能量(E)确定具体元素,而通过测量相应射线的密度来确定此元素的量。如此一来,XRF度普术就能测定物质的元素构成。

每一个原子都有自己固定数量的电子(负电微粒)运行在核子周围的轨道上。而且其电子的数量等同于核子中的质子(正电微粒)数量。从元素周期表中的原子数我们则可以得知质子的数目。每一个原子数都对应固定的元素名称,例如铁,元素名是Fe,原子数是26。 能量色散X萤光与波长色散X萤光光谱分析技术特别研究与应用了最里层三个电子轨道即K,L,M上的活动情况,其中K轨道最为接近核子,每个电子轨道则对应某元素一个个特定的能量层(伊诺斯合金分析仪中国服务商 刘贤来 158-5779-1230)。

在XRF分析法中,从X光发射管里放射出来的高能初级射线光子会撞击样本元素。这些初级光子含有足够的能量可以将最里层即K层或L层的电子撞击脱轨。这时,原子变成了不稳定的离子。由于电子本能会寻求稳定,外层L层或M层的电子会进入弥补内层的空间。在这些电子从外层进入内层的过程中,它们会释放出能量,我们称之为二次X射线光子。而整个过程则称为萤光辐射。每种元素的二次射线都各有特征。而X射线光子萤光辐射产生的能量是由电子转换过程中内层和外层之间的能量差决定的。例如,铁原子Fe的Kα能量大约是6.4千电子伏。特定元素在一定时间内所放射出来的X射线的数量或者密度,能够用来衡量这种元素的数量。典型的XRF能量分布光谱显示了不同能量时光子密度的分布情况。

三、合金分析仪检测的检测范围

1.检测范围:从镁 (Mg)到钚 (Pu)之间的所有83种元素,本机标配25种标准元素。钛Ti, 钒V, 铬Cr, 锰Mn, 铁Fe, 钴Co, 镍Ni, 铜Cu, 锌Zn, 硒Se, 锆Zr, 铌Nb, 钼Mo, 铪Hf, 钨W, 钽Ta, 铼Re, 铅Pb, 银Ag, 锡Sn, 铋Bi, 锑Sb,金Au,铂Pt,钯Pd。

2.可识别的常用合金牌号256种,并可用户自定义合金牌号300种。

四、合金分析仪应用领域

1.用于现场,无损,快速,准确分析检测合金元素和合金牌号的识别

2.不锈钢来料检验;库存材料管理;安装材料复检

3.军工、航空航天、压力容器、电力电站、石油化工、精细化工、制药等行业中。

4.金属废料回收

5.质量保证与质量控制(QA/QC)

五、a-3000合金分析仪实测数据报告

304实际样品测试值对比

Reading

Mode

Cr

Mn

Fe

Ni

标准值

Analytical

18.56

1.53

71.24

8.09

实测值

Analytical

18.66

1.57

71.16

7.91

实测值

Analytical

18.61

1.58

71.02

8

实测值

Analytical

18.62

1.52

71.18

7.98

实测值

Analytical

18.68

1.57

71.12

7.91

实测值

Analytical

18.67

1.5

71.03

7.99

实测值

Analytical

18.62

1.55

71.22

7.93

实测值

Analytical

18.5

1.57

71.2

7.96

实测值

Analytical

18.7

1.53

71.14

7.99

实测值

Analytical

18.63

1.52

71.31

7.82

实测值

Analytical

18.65

1.51

71.23

7.95

测量范围通过微处理器进行温度曲线的采集,利用凝固期间比电阻快速测量灰铸铁碳当量及共晶团数目。灰铸铁化学成份变化范围:3.7~4.8%CE,2.9~3.9%C,1.4~3.2%Si,0.3~0.9%Mn。浇注后,铁水比电阻下降,凝固期间比电阻则显著增加,凝固完毕后,比电阻缓慢减少。碳当量越低,该升值△ρ_(max)越小,并有下列关系:CE=3.25+0.025△ρ_(max),碳当量每增加0.1%,△ρ_(max)约增加4.0μΩ•cm。比电阻最大升率或上升角θ也随着碳当量的增加而增加,并具有下述关系:CE=a+bθ,式中a、b为常数。铸铁比电阻最大值越大,则共晶团数目越多,并且两者之间在生产条件下具有线性依属关系。测量过程于浇注后1~3分钟内完成。灰铸铁比电阻受金相显微组织(石墨片及共晶团)及化学成份制约。两种显微组织对比电阻的影响可以这样来看:电子被“挤”到共晶团边界,大部份电流沿石墨片表面及共晶团边界流过。因此,电流通道断面积减少,从而比电阻增加。通过铁水结晶法来测量计算碳硅成份及铁水品质。

技术参数测温范围:1250℃~1350℃

测量范围:碳当量2.5~5.0±0.047% 碳含量2.1~4.2±0.039% 硅含量0~20±±0.1%

采用抗电磁干扰、防尘、超薄便携设计,操作方便,非专业人员也可操作,可与其它电子设备连接。设有多条检测线,针对不同牌号的铁水以及各工厂铁水的实际情况选择恰当的检测线,使检测更科学准确。

通过改进的求值方法进行工作,能自动控制重要的冶金参数,弥补“光谱”难以测准非金属元素(C、Si)之不足,以及常规分析仪器不能满足炉前快速分析的时间要求,满足铸造生产的质量控制要求。

显示数字高度:500mm

温度补偿范围:0-15℃

配套样杯类型:K型

测量精度:±1℃

显示温度单位:华氏温度或摄氏温度可设置

测量最大时间:240秒

测量状态显示:仪表上“准备”绿灯、“测量”黄灯、“完成”红灯循环显示

数据输出:串行信号RS232-TTY电流环信号输出 输出格式:1开始位、7数据位、奇偶校验、2停止位

电源要求:98-242VAC,50-60Hz,30VA左右

仪表防护标准:IP65标准防护

EMC标准:执行EN50081-2及EN50082-2抗干扰性标准

仪器操作现场

炉前碳硅分析仪

 
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