光弹性
简介学科：构造地质学
词目：光弹性
英文：photoelasticity
释文：光弹性是某些均质透明固体在应力作用下发生双折射的性质。利用这种物理性质可以在偏振光镜下通过观测等色线和等倾线，定量研究应力的分布形式。[1]
此法的主要特点是在进行三维光弹性实验应力分析时不必破坏模型，有时也可不将模型冻结。1939年,R.韦勒首先提出光弹性散光法,经过D.C.德鲁克、H.T.杰索普、M.M.弗罗赫特等人的努力，到50年代末，它的原理已比较完善，但由于技术上的原因，这种方法未得到广泛使用。60年代激光技术的发展，获得高强度的片光源，才使光弹性散光法得到推广。此法已用来解决扭转、平面应力、表面应力和轴对称应力等的测量问题，但尚难以用于研究较复杂的三维应力问题。
原理光线通过各向同性的透明介质时，由于介质中的微粒或分子的作用，产生散射光。垂直于传播方向的散射光，是平面偏振光。它的光强度和入射光的性质、材料的散光性能以及观察方向有关。入射为自然光时，在传播轴的所有垂直方向的散射光的光强度相等。