半导体材料国家工程研究中心
中心简介北京有色研究总院1957年开始硅材料的研究。1958年10月成立了国内第一个硅材料研究室，系统地开展了硅多晶、单晶及其性能测试的研究工作。1965年利用自己的成套技术设计建成了我国第一个硅材料厂————四川峨眉半导体材料厂。后又参与从日本引进全套硅厂的筹备工作，于1966年建立洛阳单晶硅厂。
1991年11月成立了半导体材料国家工程研究中心，中心有高级研究员48名，固定资产3亿元人民币。中心在半导体材料单晶生长技术、半导体材料晶片加工技术、半导体材料缺陷的形成机理与消除措施领域开展了深入的研究。并在此基础上取得了很多开创性的研究成果，在国内处于领先地位。
中心具有单晶生长、切片、磨片、腐蚀、抛光、清洗及检测工艺；具有高精度的晶体生长、切、磨、抛设备和超净环境；具有整套置于超净环境中的测试、清洗、包装设备；具有相应的纯水、气体和化学试剂等辅助条件和设施。
生产线1.超大规模集成电路用直拉单晶及抛光片的生产线；
2.功率器件用区熔硅单晶及晶片生产线；
3.光电子器件用Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体单晶及晶片的生产线。
主要产品
1、φ3" －φ8" 直拉硅单晶及抛光片；
2、φ3"、φ4"区熔硅单晶及晶片
3、φ2"、φ3" Ⅲ-Ⅴ族化合物半导体（直拉及水平砷化镓、磷化镓、锑化镓、磷化铟）单晶及晶片。