专用集成电路设计实践
图书信息
书 名: 专用集成电路设计实践
作者：王松林 史凌峰 袁冰
出版社：西安电子科技大学出版社
出版时间： 2008年11月
ISBN: 9787560621319
开本： 16开
定价: 25.00 元
内容简介《专用集成电路设计实践》强调实践性和可操作性，结合八个最常用集成电路设计实验及最常用EDA工具的使用，循序渐进地介绍了集成电路设计的工程基础和设计方法。
《专用集成电路设计实践》共分六章，分别为：绪论；集成电路工艺基础；电路设计，包括触发器、比较器、运算放大器、带隙基准、振荡器、LDO稳压器、D/A和A/D共八个电路设计实践；EDA软件的使用，包括Cadence、Hspice、Eproduct和Ｔanner Pro的使用；版图设计。包括DRC、ERC、LVS、和LPE；ASIC测试技术概述，包括常用测试设备与仪器、芯片测试方法、芯片Debug方法等。
《专用集成电路设计实践》可作为高等院校通信工程、电子信息工程、电子科学与技术、测控技术与仪器、计算机技术以及自动化等专业高年级本科生或研究生的教材，也可供有关科技人员参考。尤其对集成电路设计领域的工程技术人员来说，《专用集成电路设计实践》是一本非常有益的参考书。
《专用集成电路设计实践》若与西安电子科技大学出版社同时出版的《专用集成电路设计基础教程》一书配套使用，效果更好。
图书目录第1章绪论
1.1集成电路的发展历史
1.1.1重大的技术突破
1.1.2集成电路的分类
1.1.3集成电路的发展历史
1.1.4集成电路的展望
1.1.5民展重点和关键技术
1.2专用集成电路的发展历史
1.2.1专用集成电路的概念及发展概况
1.2.2专用集成电路的分类
1.2.3专用集成电路的优点
1.3实践的重要性
1.4本书的特点
第2章集成电路工艺基础
2.1引言
2.1.1IC制造基本原理
2.1.2工艺类型简介
2.2集成电路制造工艺概述
2.2.1氧化工艺
2.2.2掺杂工艺
2.2.3光刻工艺
2.2.4外延工艺
2.2.5金属化工艺
2.2.6制版工艺
2.3双极集成电路的基本制造工艺
2.3.1典型的双极集成电路工艺
2.3.2双极集成电路中元件的形成过程和元件结构
2.4CMOS集成电路的基本制造工艺
2.4.1MOS集成电路的基本制造工艺
2.4.2CMOS集成电路工艺
2.5BiCMOS集成电路的基本制造工艺
2.5.1以CMOS工艺为基础的BiCMOS工艺
2.5.2以双极工艺为基础的BiCMOS工艺
2.6BCD集成电路的基本制造工艺
2.6.1BCD工艺的关键技术简介
2.6.2BCD工艺的发展趋势
2.7锗硅器件及基外延工艺简介
第3章电路设计
3.1触发器的设计
3.1.1触发器的原理
3.1.2触发器的指标
3.1.3常见触发器结构
实践一触发器设计实例
3.2比较器设计
3.2.1比较器的原理
3.2.2比较器的指标
3.2.3常见比较器的结构
实践二比较器的电路设计
3.3运算放大器设计、
3.3.1运算放大器的基本原理
3.3.2运算放大器的性能指标及重要参数
3.3.3常见运算放大器的结构
实践三运算放大器电路设计
3.4带隙基准设计
3.4.1带隙基准的原理
3.4.2带隙基准的指标
3.4.3常见带隙基准的结构
实践四带隙基准电路设计
3.5振荡器设计
3.5.1振荡器的原理
3.5.2振荡器的指标
3.5.3常见振荡器的结构
实践五振荡器电路设计
3.6LDO稳压器设计
3.6.1LDO稳压器的原理
3.6.2LDO稳压器的结构
3.6.3常见LDO稳压器的结构
实践六LDO稳压器的电路设计
3.7D/A转换器的设计
3.7.1D/A转换器的原理
3.7.2D/A转换器的指标
3.7.3常见D/A转换器的结构
实践七D/A转换器的电路设计
3.8A/D转换器的设计
3.8.1A/D转换器的原理
3.8.2A/D转换器的指标
3.8.3常见A/D转换器的结构
实践八A/D转换器的电路设计
第4章EDA软件的使用
第5章版图设计
第6章ASIC测试技术概述
参考文献
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