陶顺衍
陶顺衍，中国科学院上海硅酸盐研究所特种无机材料研究发展中心副研究员，博士，硕士生导师。1969年12月出生，无锡梅村镇南陶更上人。1978年8月至1981年7月在无锡县实验小学读书，1981年9月至1987年7月分别在梅中初中部和高中部学习。1987年9月至1991年7月就读于南京化工学院（现改名为南京工业大学）无机非金属材料专业，获工学学士学位。后在该校专业免试硕博连读，开展硅酸二钙相变增韧以及混合导电性钙钛矿型致密透氧膜材料方面的研究，并于1998年7月获得工学博士学位。1998年8月至2000年8月，在中国科学院上海硅酸盐研究所博士后流动站工作，主要开展等离子喷涂高摩擦碳化钨层和羟基磷灰石涂层方面的研究工作。2000年8月出站后留所工作至今。近年来主要从事生物涂层材料、耐磨抗蚀涂层材料以及纳米涂层材料等方面的研究，负责承担并参与了国防军工重点项目、国家自然科学基金项目和上海市科委资助项目多项。2002年5月至6月赴法国UTBM-LERMPS开展中法合作研究项目。在国内外期刊杂志和会议上发表论文十余篇，申请发明专利2项（其中一项已获授权批准），参与编写书籍1部。