激光刻膜机

王朝百科·作者佚名  2010-10-10  
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三工光电第五代薄膜太阳能电池刻膜机(G5)问世

激光刻膜机
激光刻膜机

作为科技部专项资金的承担项目,公司最近推出的第五代非晶硅薄膜太阳能电池刻膜机已通过国家验收,“G5”无论是技术指标还是产能效率都达到世界一流水平。该设备采用非接触式的工作台,不但解决了玻璃运行中的平稳性,还有效地解决了摩擦问题;使用世界一流的高性能激光器,其性能指标包括脉冲的稳定性、脉宽、峰值功率等参数均达到世界先进水平;另外在控制方面,采用全自动控制,包括自动进出料、自动识别、自动跟踪、自动校正和自动定位,这在国际还是首创。当检测到电池片缺陷时,可立即进行重刻和补刻;更可选择全部检测或抽检。此外,“G5”属于高标设备配置,国内的客户基本要做的是“减法”而不是“加法”。当客户不需要某些功能时,可根据要求去除,更可根据实际要求进行定制。

12月,江苏强生公司斥资1000万元订制 “非晶硅薄膜太阳能电池成套生产设备”。 “这套国内领先、国际先进的设备,由一个一直静默的企业制造出来,源于十余年的积累与坚守。”三工董事长何成鹏自揭谜底。

近期,公司紫外激光器研发项目正式启动。紫外激光器的研发标志着三工光电激光设备加工手段多样化、市场应用广泛化程度逐步加强。

SDF50B / SDF10D / SSF10B / SSF5D

设备性能SDF(SSF)系列激光刻膜机采用半导体泵浦激光器(或全固态激光器),光点固定不动,工作台带动电池板两维运动,或两维分离,光点沿X轴运动,电池板沿Y轴运动,刻膜专用X-Y工作平台,伺服驱动、滚珠丝杠与导轨传动,或X轴直线电机驱动,通过界面友好的专用控制软件,方便刻膜路径的编辑和修改,利用分光系统,同时完成两路或四路激光同步输出。

应用领域非晶硅薄膜太阳电池的透明导电膜(SnO2、AZO、ITO)、非晶硅膜系(a-Si、μc-Si)、背电极膜(ZnO、Al)等的激光刻膜(刻线、切割),其它薄膜电池的膜层刻膜(金属钼Mo薄膜、金属镍Ni薄膜、碲化镉CdTe薄膜)。

主要技术参数规格型号

SDF50B

SDF10D

SSF10B

SSF5D

激光波长

1064nm

532nm

1064nm

532nm

激光功率

50W

10W

10W

5W

激光重复频率

200Hz~50kHz

1kHz~100kHz

刻膜线宽

80μm

50μm

刻膜速度

200mm/s

600mm/s

刻膜精度

±10μm

±10μm

工作台幅面

1250×640mm 或 1100×1400mm

1250×640mm 或 1100×1400mm

冷却方式

循环水冷

风冷

 
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