X射线光电子光谱学

X射线光电子光谱学(XPS)是一种量化的光谱学技术，用于测量材料中各种元素的经验化学式，化学态和电子态。用x射线束照射材料的同时，测量动能和从材料表面1纳米到10纳米处逃逸的电子数，从而得到x射线光电子光谱。XPS测量在超高真空环境下进行。

XPS是一种表面

XPS的历史1887年，海因里希·鲁道夫·赫兹发现了光电效应，1905年，爱因斯坦解释了该现象。二十年后的1907年，P.D. Innes用伦琴管、亥姆霍兹线圈、磁场半球（电子能量分析仪）和照像平版做实验来记录宽带发射电子和速度的函数关系

化学分析技术，可以用来分析金属材料在特定状态下或在一些加工处理后的表面化学。

XPS的物理原理XPS（X射线光电子能谱）的原理是用X射线去辐射样品，使原子或分子的内层电子或价电子受激发射出来。被光子激发出来的电子称为光电子。可以测量光电子的能量，以光电子的动能为横坐标，相对强度（脉冲/s）为纵坐标可做出光电子能谱图。从而获得试样有关信息。X射线光电子能谱因对化学分析最有用，因此被称为化学分析用电子能谱（Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）.