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ATO粉体

王朝百科·作者佚名  2011-02-16  
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介绍

ATO主要由氧化锡和氧化锑成分来构成,粒径大部分在20-80纳米。

ATO粉体

氧化锡和氧化锑的不同比例所决定不同的性能和应用领域。

广泛应用于半导体、电子显现管、LED、节能环保(隔红外,隔紫外)、防静电、防辐射等领域。

其主要成分比例为SnO2:Sb2O3=90:10或SnO2:Sb2O3=95:5为比较常见。

物理特性

指标名称

ATO-P100

外观

蓝色粉体

成份

锑锡氧化物

比表面积

50㎡/g

配比

SnO2:Sb2O3=95:5或其他配比

比重

压实密度:2.0 g/cm3

比电阻

30Ω.cm2(压块)

纯度

≥99.95%(基于金属杂质)

特性

导电性

均匀分散的导电纳米超微粒子的相互作用形成导电膜,导电膜中电荷移动可实现高透射率和防静电(30Ω.cm2)

透明性

ATO纳米超微粒子对可视光(380nm-780nm)的吸收率极弱,而且对可视光难以散射的大小粒子组成,所以有着高的透明性

隔红外、隔紫外、防辐射性能

能有效地阻止红外辐射和紫外线辐射,阻隔红外效果达80%以上,阻隔紫外效果达65%以上。

应用领域

真空磁控溅射靶材

装饰和功能镀膜工业 Decorative & coatings

利用物理或者化学气相沉积镀膜,使工件增加防静电性能能,防辐射性能等。

建筑玻璃/汽车玻璃工业、柔性卷绕镀膜工业

用于大面积磁控溅射镀膜,如建筑玻璃,汽车玻璃,低辐射玻璃,薄膜太阳能电池、ATO Film等工业,增加隔热性能、隔紫外性能、防辐射性能、防静电性能等。

光学镀膜工业

适用于TFT,FED,PDP, OLED和CF(彩色滤光片)等各种显示器基础元件的镀膜及大规模集成电路镀膜领域。

 
 
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