金属有机物化学气相淀积

金属有机物化学气相淀积

MOCVD是Metal-Organic Chemical Vapor Deposition的缩写，意为金属有机物化学气相淀积，是1968年由美国洛克威尔公司提出的一种制备化合物半导体单品薄膜的新技术。

该设备集精密机械、半导体材料、真空电子、流体力学、光学、化学、计算机等多学科为一体，是一种自动化程度高、价格昂贵、技术集成度高的尖端光电子专用设备，主要用于GaN（氮化镓）系半导体材料的外延生长和蓝色、绿色或紫外发光二极管芯片的制造，是LED等行业最有发展与应用前途的专用设备之一。