光化学腐蚀
概述光化学腐蚀生产的镭射标贴
光化学腐蚀 photochemical etching
在器件表面涂以感光树脂,增感剂,抗蚀剂等,利用光照后树脂溶解性的显著变化,对光照区进行控制,使表面得到所需图像的一种方法,又称光刻。具体方法光化学腐蚀处理中,感光后用溶剂将不需要的抗蚀剂除去,将具有一定图形的涂层进行固化,再用腐蚀剂对加工的材料进行保护性腐蚀。一般有两类:一为涂层曝光显影后,曝光部分溶解,未曝光部分留下;另一为未曝光部分溶解,曝光部分留下。用途目前,光化学腐蚀方法在电子工业中被广泛利用,如集成电路的制造等。