微细加工光学技术国家重点实验室（中国科学院光电技术研究所）
简要概况微细加工光学技术国家重点实验室[1]依托单位为中国家科学院光电技术研究所。实验室于1991年由国家计委批准建设成立。1993年12月，经国家计委各国科学院批准对外开放，并1996年通过国家验收。实验室主任为姚汉民研究员，本届学术委员会主任为姜文汉院士。
研究领域实验实的研究方向是微细加工兴学技术基础和应用研究。主要研究内容为微光学研究及应用：微光学（包括衍射光学）的相关理论与优化设计方法，微列阵光学元件制作的新方法和新工艺、深浮雕微细结构的成形方法与测试技术；折衍混合光学技术和系统；研究新型折衍混合光学系统设计与优化，研制出高性能，轻量化折衍混合光学系统与整机，并拓宽折衍混合光学成像系统在航天领域的应用；微电子光学关键技术原理和方法研究：开展深亚微米光刻关键技术原理和方法研究，包括X射线光刻、准分子光刻、原子力光刻等。突破0.07mm－0.18mm光刻关键技术，研究用波前工程方法提高分辨率的实用化问题。实验室瞄准国家在该领域的战略需求和高技术前沿研究，多年来在微光学、微电子光学领域开展了多项创新研究，通过承担国家和省、部委重大项目，实验室学科建设和环境建设有了很大进展。尤其是从中培养出一批德才兼备的学术带头人和青年科技人才，形成了学术气氛浓厚，学风严谨，有竞争力, 朝气蓬勃的研究群体。实验室实行老中青相结合的科研管理机制，注重高水平科研队伍的建设，吸引和培养了一批博士、硕士学历的中青年科技人员，占全室人员的59%。其中杜春雷博士成为微光学学术带头人；袁家虎、李展博士是折衍混合光学学术带头人；胡松、唐小萍博士为微电子光学学科青年科技骨干，目前我室80%以上的课题第一负责人由中青年科技骨干担任。
交流合作微细加工光学技术国家重点实验室与本领域国内外数十余家科研院所、大专院校有良好的合作关系。与英国卢瑟福国家重点实验室、瑞士苏黎世CSEM实验室和美国SUPERARRAY公司以及四川大学、中国科学院微电子中心、上海技物所等单位在微光学、微电子光学及其应用开展了卓有成效的合作交流。
项目成果近年来，我室科研经费逐年递增，并取得了一批高水平研究成果：建立了具有特色的微光学技术研究平台，以实验室提出的移动掩膜曝光法为基础，通过优化设计和发展新工艺，解决了光刻过程中多种微浮雕结构的高保真传递，制作出大数值孔径、从红外到紫外的宽波段、深浮雕、非球面、高填充因子的微列阵元件，实现了小系统集成。研制成功用于哈特曼波前传感器、红外焦平面探测器中的光聚能器以及半导体激光器的波面整形的列阵元件，为国家863高技术发展做出了贡献。衍射微透镜列阵实用化研究达到了国内领先、国际先进水平。面向航天事业发展的需求，在国内首次将折衍混合光学系统的研究成果应用于航天光学系统。折衍混合成像光学系统具有视场大、重量轻、无畸变和温度适应能力强等特点；用于空间成像折衍混合成光学系统，其透过率为传统光学系统的2.2倍，作用距离提高一倍。实验室研制的星敏感器，可使卫星姿轨控制精度提高近1个数量级，这些研究成果在军事、航天以及民用领域有着广阔的应用前景。坚持不懈地研究微电子光刻关键单元技术。突破了大数值孔径光刻物镜的设计和研制、均匀照明系统、高精度同轴对准和工件台定位等高难度的单元技术，使我国成为世界上能研制生产g线、i线大数值孔径投影光刻物镜的少数国家之一，该项成果获得中国科学院科技进步一等奖，并成功研制出国内首台0.8μm投影光刻机，获国家科技进步三等奖，为我国微电子装备的发展提供了技术基础。实验室还深入系统地开展了波前工程的研究, 利用准分子光刻系统，采用相移掩模技术使分辨率从0.5μm提高到0.3μm；开展了原子力光刻技术前瞻性研究，取得良好进展。1997年以来，获得国家科技进步奖三等奖1项，中国科学院科技进步奖一等奖1项，三等奖1项，中国科学院自然科学奖三等奖1项，四川省科技进步三等奖1项。受理发明专利20件、授权实用新型专利24件。在国内外核心科技刊物及各类会议上发表学术论文260余篇。
经过2002年新一轮的国家评估后，实验室陆续制订了一系列有关人才引进、高水平科研成果和管理机制等方面的战略规划，面向微光学、折衍混合光学和微电子光学技术国家重大需求，面向信息领域的国际高科技前沿，争取将实验室建设成为微光学、微电子光学技术创新的国际一流研究基地和培养高水平研发人才的基地。