X射线光电子能谱仪

主要用途： XPS： 1.固体样品的表面组成分析，化学状态分析，取样深度为～3nm 2.元素成分的深度分析（角分辨方式和氩离子刻蚀方式） 3.可进行样品的原位处理 AES： 1.可进行样品表面的微区选点分析（包括点分析，线分析和面分析） 2.可进行深度分析适合： 纳米薄膜材料，微电子材料，催化剂，摩擦化学，高分子材料的表面和界面研究

仪器类别： 03030707 /仪器仪表 /成份分析仪器

指标信息： 主真空室：1×1010乇 XPS： AES: 分辨率：0.8cV 电子枪束斑：75nm 灵敏度：80KCPS 信噪比：大于70:1 角分辨：5°～90° 灵敏度：255KCPS A1/Mg双阳极靶 能量分辨率：0.3% 位置灵敏检测器（PSD）

附件信息： XPS： 1.快速氩离子刻蚀枪 AES： 1.快速氩离子刻蚀枪 2.能量损失谱 ,

主要研究领域包括：（1）TiO2纳米光催化以及在空气和水净化方面的应用；（2）汽车尾气净化催化剂新型金属载体的研究；（3）纳米药物载体及靶向药物的研究；（4）纳米导电陶瓷薄膜材料的研究；（5）纳米杂化超硬薄膜材料及摩擦化学的研究；（6）纳米发光材料及纳米分析化学研究；（7）有机电致发光材料的表面化学研究；（8）纳米材料在香烟减毒净化上的应用研究；（9）无机纳米杀菌与抗菌材料及其在饮用水净化上的作用；（10）电解水制氧电极材料的研究