程光煦
程光煦
1943年11月生，江苏南京人，物理教授。1964年7月毕业于江苏师范学院物理系。农村劳动1年，中学任教14年，于1979年考入南京大学物理系研究生、毕业后留校任教、1984年调到分析中心及固体微结构物理实验室，负责建设光散射实验室。历经两年半，完成喇曼和布里渊两台谱仪的安装、调试及人员的培养等工作。在以后的10年用光散射谱仪进行了以下的工作；非晶薄膜、非晶硅超晶格、金属超晶格；大阳能电池窗口材料的研制、耐高温韧性陶瓷材料热的变温喇曼研究、全碳分子结构及其发光特性的研究、纳米颗粒结构的喇曼研究等；超薄磁性材料中磁振子与结构的关联和结构特征的布里渊研究等。现已发表《Scattering Study of Interface Constituents in a-Si:H/a-SiNx:H Superlatices》等论文一百余篇。因“微晶硅薄膜的研究”获1991年国家教委科技进步二等奖，因“用光散射技术测试分析材料结构”获1997年中国分析测试协会二等奖；因“纳米微粒磁、光性质”获1998年国家教育部科技进步二等奖；因“全碳分子固体的结构、相变、光致发光与吸收”获1998年度江苏省科技进步二等奖。享受1998年国务院颁发的政府特殊津贴。此外，结合科研工作系统的总结了光散射领域的研究成果，自1993年开始每年为研究生讲授“喇曼、布里渊散射的原理及其应用”的课程。近来，入编的专书有《中国高等教育专家名典》等近30余部。连续四年（1997、1996、1995及1994）收到美国科学发展（促进）学会（AAAS）特邀会员证。此间，还收到美国电气、电子工程学会（IEEE）的入会邀请信。现已被美国传记研究所（ABI）收录到1996年国际名人录第六版第四十页。每年都收到英国剑桥国际传记中心（IBC）的入典邀请信。