褚卫国

褚卫国，男，1971年12月生。2000年于哈尔滨工业大学获博士学位，2000-2001年中科院物理所博士后，2001-2004年日本东京大学Research associate/东京理科大学Research fellow。现为国家纳米科学中心副研究员。

主要研究方向：功能薄膜，纳米材料和加工，表面和界面结构研究

过去主要工作：早期从事各种结构和功能材料的合成、相变、晶体结构及其与性能关系的研究。近期主要从事磁性金属/半导体薄膜的制备，并利用多种表面分析方法如XPD,XPS,LEED,RHEED和STM等研究薄膜及界面的结构。共发表学术论文近40篇。