脉冲真空电弧离子源

脉冲真空电弧离子源，也称为脉冲等离子体发生器或脉冲多弧离子源。它可在高真空下(3X10-3Pa以上)，利用真空脉冲电弧放电使阴极材料蒸发并电离，形成纯净的等离子体，沉积在基片上之后形成所需膜层。由于在整个工艺过程中只产生纯等离子体，膜层性能稳定，可在低温下生成表面光滑细致且附着力极好的高质量膜层。

该离子源可用于各类金属膜、合金膜以及类金刚石薄膜的镀制。采用脉冲真空电弧离子镀技术来研制类金刚石薄膜，不需要氢及其它含氢化合物，所以获得的膜层中不含氢，这一新技术目前在国内只有我院独家掌握。采用这一新技术镀制类金刚石薄膜的主要优点有： (1)膜层性能稳定；(2)3．4／μm处无吸收峰。

主要技术指标：脉冲真空电弧离子源工作条件及相关参数：真空度： 5X10-2Pa～以上；阴极工作电压： 60～400伏 ； 起弧极工作电压： 300～800伏；脉冲频率： 1—10Hz